我院一項(xiàng)實(shí)用新型專利獲授權(quán)

  日前，我院一項(xiàng)實(shí)用新型正式獲得國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局的專利授權(quán)，專利名為“一種地下式閥門井（專利號(hào)：ZL201921476120.3）”。本專利針對(duì)現(xiàn)有的閥井因下挖深度大造成巨大成本代價(jià)的技術(shù)問題，提供了一種在遵循國(guó)家新土地政策的前提下能夠有效減少下挖深度的地下式閥井。即在原有的閥門井蓋板上部設(shè)置一用于容納管道閥類的閥艙，通過在填埋時(shí)以局部預(yù)留方式形成容納管道中排氣閥或蝶閥等高于管道閥門的空間，縮減管道埋深與地面的空間，進(jìn)而來減少整體的下挖深度，減少人力物力的耗用，節(jié)約成本。此類新型閥井已成功應(yīng)用于日照市城市供水應(yīng)急備用水源一期工程中，運(yùn)行管理良好，獲得了業(yè)主的一致好評(píng)，未來前景可期。